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题目是这样的:# l' w. [% x4 A& P t `& Q* Z
! E+ S1 u" B, w, g- ^1 V
- ?' z* f+ Z6 U- i/ a: m( j- Z g在T=300K时,在两块单晶硅A和B中分别均匀掺杂ND=1*1017cm-3和NA=1*1016cm-3$ X E) X/ R1 S5 ] } w8 _, d" O! r0 K
1.
3 J3 B8 O2 E2 e8 R分别指出两种半导体的类型,并求出两种半导体中电子浓度和空穴浓度。
6 V+ g+ R" s2 n6 E& v: R% u2.
& D. M4 o( t- c0 \如已知NC=2.8*1019,NV=1.04*1019,分别求出两种半导体的费米能级相对导带底或价带顶的位置。
; U! m: d. z: X; u! A$ O8 ]3.6 \0 Q+ Q2 _. g* v
如由这两种半导体形成PN结,求所形成的PN结的接触电位差。
2 F* J5 H0 C m1 `7 XNi=1.5*1010 cm-3 Vt=KBT/e=26mv
) d- v! a! a# w1 e/ e硅材料 Nc=2.8*1019% V0 p3 Z, ~4 O. A% h1 h& x
Nv=1.04*1019
2 V" ^7 X9 d; v& T, D+ x: N0 Te=1.6*10-19C0 f0 X0 P9 _. p; [$ J
KB=1.38*10-23J/K
@5 Z0 s( a/ |
% d: a& E, g' _3 q, G , ^. `- Y2 H' f: h+ {4 v8 _# Q/ k
) I6 g) S$ O7 p$ X5 S! T
' v) o& {5 j w6 ~$ x8 p* o/ v好同学帮帮我,我的QQ4600533,手机13282105885,当面酬谢了。 |
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